대만, 포토마스크 없이 회로를 인쇄하는 미국 기업의 반도체 제조 시스템 채택
Taiwan adopts US firm’s chipmaking system that prints circuits without photomasks
TL;DR AI
1분핵심 요약
국립청화대학교가 멀티빔의 MBX 다중 컬럼 전자빔 리소그래피 시스템을 차세대 반도체 연구·공정 개발용으로 채택했다.
이번 계약은 멀티빔의 대만 첫 도입 사례로, 설치는 반도체연구대학원에 이뤄지고 장비 인도는 2027년으로 예정돼 있다.
마스크 없이 칩 패턴을 구현하는 전자빔 리소그래피가 대만 반도체 연구 생태계에 들어오면서, 시제품 제작과 첨단 패키징 개발 속도가 빨라질 전망이다.